EV Group（EVG）是面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶片鍵合和光刻設備（光刻機價格）的領先供應商，而新穎的納米光刻工具制造商SwissLitho AG今天宣布一種聯合解決方案，可以生產最小到單納米級的3D結構。該聯合解決方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該聯合解決方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統，以生產具有3D結構的主模板用于納米壓印光刻（NIL）和EVG'

目標應用
       EVG和SwissLitho最初將以聯合解決方案為目標，以開發衍射光學元件和其他相關光學組件，以支持光子學，數據通信，增強/虛擬現實（AR / VR）和其他應用，并有可能擴展到生物技術，納米流體技術和其他納米技術應用。

作為聯合解決方案的一部分，SwissLitho的NanoFrazor系統將用于創建壓印母版。與傳統方法（包括電子束（電子束）和灰度光刻）相比，該新技術具有以無與倫比的精度打印3D結構的獨特能力。然后，將使用EVG的HERCULES NIL系統，通過該公司專有的大面積納米壓印SmartNIL納米壓印技術，以高成本效益，高成本效益地創建工作模板。

       EV Group公司技術總監Thomas Glinsner博士指出：“ SwissLitho的NanoFrazor解決方案與EVG的SmartNIL納米壓印技術高度互補。我們可以共同為光子學和其他涉及3D結構圖案的應用提供完整的NIL納米壓印解決方案，為兩家公司提供了巨大的機會為了擴大我們的客戶群和市場范圍，我們的NILPhotonics®能力中心將成為對此聯合解決方案感興趣的客戶的第一聯系點，我們將在此提供可行性研究，演示和中試生產。

       技術的仔細研究NanoFrazor背后的技術是熱掃描探針光刻技術（光刻機價格），該技術是在蘇黎世的IBM Research發明的，并被SwissLitho AG收購。這種無掩膜的直接寫入光刻方法涉及在圖案化之前將獨特的熱敏抗蝕劑旋涂到樣品表面上。然后使用加熱的超銳利尖端來分解和蒸發抗蝕劑，同時檢查書寫的納米結構。然后可以使用剝離，蝕刻，電鍍，模制或其他方法將所得的任意抗蝕劑圖案轉移到幾乎任何其他材料中。

       SwissLitho首席執行官Felix Holzner博士說：“我們開發了NanoFrazor產品線，以提供一種高性能，價格合理的替代產品，并擴展了昂貴的電子束光刻系統。（光刻機價格）” “該技術允許一步制造具有多個'級別'的母版。特別是，與傳統的電子束或灰度光刻方法相比，具有納米精度的3D結構可以更容易地制造，并且保真度更高。我們期待著與客戶合作，將我們的技術與EVG在奧地利NILPhotonics納米壓印技術中心的成功SmartNIL納米壓印工藝相結合。”

       HERCULES NIL納米壓印設備將EVG在NIL納米壓印，抗蝕劑處理和大批量制造解決方案方面的廣泛專業知識結合到單個集成系統中，該系統可為200毫米晶圓提供高達40 wph的吞吐量。該系統的可配置模塊化平臺可容納多種壓印材料和結構尺寸，從而使客戶在滿足其制造需求時具有更大的靈活性。此外，其制造多次使用的軟郵票的能力有助于延長原版烙印模板的使用壽命。

       使用SwissLitho的NanoFrazor制造的3D計算機生成的全息圖的納米壓印圖章的形貌圖像。使用EV Group的HERCULES®NIL納米壓印光刻系統（光刻機價格），此類印章可用于大量復制3D結構。

關于SwissLitho

       SwissLitho是一家屢獲殊榮的初創公司，成立于2012年，其愿景是徹底改變納米制造。該公司開發，制造和銷售具有高分辨率和獨特功能（例如3D圖案化和原位計量）的新型無掩模納米光刻技術，該技術具有取代和擴展電子束光刻等傳統圖案化技術的潛力。客戶使用SwissLitho獨特的NanoFrazor工具來制造新穎的電，光，磁和生物納米設備，而這在以前是無法制造的。有關公司及其產品的更多信息，請訪問www.swisslitho.com。

關于EV集團（EVG）

       EV Group（EVG）是制造半導體，微機電系統（MEMS），化合物半導體，功率器件和納米技術器件的設備和工藝解決方案的領先供應商。主要產品包括晶圓鍵合，薄晶圓處理，光刻/納米壓印光刻（NIL）和計量設備（光刻機價格），以及光刻膠涂布機，清潔劑和檢查系統。EV Group成立于1980年，為全球范圍內的精致的全球客戶和合作伙伴提供服務并提供支持。