岱美中國拿到Filmetrics膜厚測量儀F20e-UV的訂單，該客戶位于深圳市, 成立于1999年, 深圳市委、市政 府對其組建與建設給予了高度重視和大力支持。并在2004年，建成為國家高技術863-804主題光電診斷技術重點實驗室。其主要研究方向是：半導體光電子材料與器件，主要研究氮化鎵為代 表的Ⅲ-Ⅴ族化合物的外延生長技術，GaN、SiC、Al2O3等襯底材料的生長制備技術，Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體器件、化合物半導體射頻集成電路、光電子有源器件及用于超大規模集成電路(ULSI)的低介電常數薄膜的制備技術。

       膜厚儀F20e-UV膜厚測量儀采用的是波長范圍在190-1050nm的可見光干涉測量，能夠測量1nm-40um范圍的膜層厚度，準確度高達0.4%或2nm，精度為0.1nm，是一款性價比很高的膜厚測量設備。