岱美拿到EVG Aligner光刻機(jī)的訂單, 客戶是一間國(guó)際知名,提供一條龍先進(jìn)封裝服務(wù)的大型半導(dǎo)體封裝測(cè)試廠商。它將用于CIS及MEMS的生產(chǎn)和研發(fā)。

       EVG的Aligner設(shè)備全球優(yōu)越，除標(biāo)準(zhǔn)的雙面對(duì)準(zhǔn)光刻，它也可以用作鍵合前的精準(zhǔn)預(yù)對(duì)準(zhǔn)。EVG的光刻設(shè)備因其良好的穩(wěn)定性和極高的對(duì)位精度，可用于各種要求嚴(yán)格的場(chǎng)合，有手動(dòng)、半自動(dòng)及全自動(dòng)型號(hào)可選，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、MEMS及先進(jìn)封裝生產(chǎn)及研發(fā)。

       （該系統(tǒng)將于2009年12月交付，安裝和和驗(yàn)收）